金融界2025年1月20日音信，国度常识产权局信息清爽，上海新微工夫研发中心有限公司恳求一项名为“一种在深硅刻蚀中保护阳极键合名义的步伐”的专利J9九游会中国，公开号CN 119263202 A，恳求日历为2024年9月。

专利节录清爽，本发明提供一种在深硅刻蚀中保护阳极键合名义的步伐，包括：提供一个晶圆，在所述晶圆名义轮番酿成保护层和抵触层；应用光刻和刻蚀工艺将所述抵触层和所述保护层图形化；以图形化的抵触层为刻蚀掩膜，通过深硅刻蚀工艺制备出所需的结构；应用干法刻蚀工艺去除所述抵触层，应用干法去胶工艺去除所述保护层。通过在键合名义和深硅刻蚀中的刻蚀抵触层之间增多一层易去除的保护层，则在后续干法刻蚀去除抵触层时，通过键合名义上保护层的存在，可推辞键合名义因为离子轰击导致的毛糙度变高的问题。

天眼查贵寓清爽，上海新微工夫研发中心有限公司，确立于2013年，位于上海市，是一家以从事筹商和检会发展为主的企业。企业注册本钱144416万东谈主民币，实缴本钱144416万东谈主民币。通过天眼查大数据分析，上海新微工夫研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标步地467次，常识产权方面有商标信息49条，专利信息658条，此外企业还领有行政许可22个。

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